Guerra tecnológica global: La batalla por la litografía de ultravioleta extrema (UVE) define el futuro de los chips avanzados.
China ha intensificado su ofensiva en el conflicto tecnológico con Occidente, centrando sus esfuerzos en un flanco crítico: el registro masivo de patentes que podrían limitar el avance de ASML, la empresa neerlandesa líder en máquinas de fotolitografía para semiconductores. Esta estrategia no solo busca proteger la propiedad intelectual china, sino también reducir la velocidad de innovación occidental entre un 2% y un 3% anual, según análisis de expertos en propiedad industrial.
El gigante asiático es consciente de que, sin dominar la fabricación de procesadores de nodo avanzado (inferior a 7 nm), su desarrollo en inteligencia artificial, capacidades militares y competitividad industrial quedará relegado. Por ello, acelera el desarrollo de escáneres UVE domésticos, equipos esenciales para producir chips de última generación. Sin embargo, replicar la tecnología de ASML —que utiliza láseres para vaporizar gotas de estaño y generar luz de 13,5 nm— es un desafío de ingeniería sin precedentes.
Equipos de Huawei, SMIC, SMEE y centros de investigación como la Universidad Tsinghua y la Academia China de Ciencias combinan ingeniería inversa con innovaciones propias. Aunque algunos analistas occidentales tildan estos esfuerzos de «copia», los avances recientes demuestran que China ya aporta soluciones originales, especialmente en métodos alternativos para generar radiación UVE.
Patentes chinas: un cerco legal a ASML y sus aliados
Desde marzo de 2024, Huawei, SMEE y la Universidad Tsinghua han presentado decenas de solicitudes de patente en litografía, con un doble objetivo: blindar sus avances y bloquear rutas tecnológicas clave para ASML y sus socios, como las alemanas ZEISS (óptica) y TRUMPF (láseres).
Entre las patentes más disruptivas destacan:
- Tecnología SSMB-UVE: Un sistema para generar radiación de 13,5 nm usando un sincrotrón en lugar del láser de estaño de ASML. Si en el futuro los láseres actuales alcanzan su límite térmico, esta alternativa podría ser decisiva para superar los 1.000 W de potencia necesarios en la próxima generación de máquinas (Hyper-NA).
- Litografía por interferencia UVE: Patentada por Huawei y SiCarrier, permite crear patrones nanométricos sin las costosas lentes de ZEISS, un cuello de botella actual en la cadena de suministro.
- Fuentes LDP (laser-induced discharge plasma): Una técnica que podría reducir la dependencia de componentes occidentales en la generación de plasma.
Estas patentes no solo protegen la investigación china, sino que obligarán a ASML a negociar licencias o rediseñar sus sistemas si quiere adoptar estas rutas en el futuro. Según fuentes del sector, algunas solicitudes cubren procesos que ASML ya explora en sus laboratorios, lo que podría retrasar sus plazos de desarrollo en al menos 18 a 24 meses.
¿Por qué la litografía UVE es el «Santo Grial» de los chips?
La litografía de ultravioleta extremo (UVE) es la única tecnología capaz de grabar circuitos en obleas de silicio con precisión atómica, esencial para fabricar chips de 3 nm o menos. ASML, con su máquina NXE:3600D, es hoy el único proveedor capaz de producir estos equipos, cada uno con un costo superior a los US$200 millones.
China, excluida de las exportaciones de ASML por restricciones estadounidenses, busca dos caminos paralelos:
- Desarrollar su propia máquina UVE: Proyectos como el SHINE (de SMEE) pretenden tener un prototipo funcional para 2027, aunque con resoluciones iniciales menos precisas que las de ASML.
- Patentar alternativas: Si no puede igualar la tecnología neerlandesa, China apuesta por inventar métodos distintos que le den ventaja en una eventual negociación o litigio.
El éxito en cualquiera de estas vías le permitiría a Pekín:
- Reducir su dependencia de Occidente en semiconductores avanzados.
- Acelerar el desarrollo de IA militar y sistemas de defensa autónomos.
- Presionar a empresas como TSMC o Intel en futuras licitaciones de patentes.
«Si China logra que solo el 30% de sus patentes UVE sean reconocidas como esenciales, ya habrá cambiado las reglas del juego», advierte Li Wei, analista de propiedad intelectual en Shanghái. ¿Estamos ante el inicio de una guerra de patentes que redefinirá la industria?
