Avance tecnológico chino: Dos empresas logran producir chips de 7 nm sin equipos de ASML, desafiando restricciones globales.
SMIC, el principal fabricante chino de semiconductores, demostró en septiembre de 2023 su capacidad para producir chips de 7 nanómetros sin depender de los equipos de fotolitografía UVE de ASML, la empresa neerlandesa líder en el sector. Estos dispositivos, esenciales para la fabricación de chips avanzados, están vetados para China debido a restricciones impuestas por Estados Unidos, que controla patentes clave de la tecnología.
A pesar de las limitaciones, SMIC y Huawei colaboraron para lograr este hito utilizando máquinas de ultravioleta profundo (UVP), también suministradas por ASML pero menos avanzadas que las UVE. Aunque estas herramientas no alcanzan el mismo nivel técnico, las mejoras aplicadas permitieron fabricar circuitos integrados de última generación.
Ahora, China cuenta con dos fabricantes capaces de producir chips de 7 nm: SMIC y Hua Hong Semiconductor, el segundo mayor productor de semiconductores del país, según informes de Reuters. Este avance refuerza la autonomía tecnológica china en un sector estratégico.
El ‘multiple patterning’: clave para superar limitaciones técnicas
La división de Hua Hong Semiconductor dedicada a la fabricación de chips para terceros, Huali Microelectronics, se prepara para iniciar la producción de circuitos integrados de 7 nm en su planta de Shanghái. Fuentes cercanas al proyecto indican que Huawei ha colaborado estrechamente con Huali, lo que sugiere dos conclusiones importantes:
Primero, esta tecnología de 7 nm será crucial para la producción de GPU destinadas a inteligencia artificial, tanto para Huawei como para otras empresas chinas. Segundo, al igual que SMIC, Huali no tiene acceso a los equipos UVE de ASML, por lo que es probable que haya optimizado técnicas de multiple patterning para lograr este avance con las máquinas UVP disponibles.
El multiple patterning es una técnica que consiste en transferir el patrón a la oblea en múltiples pasadas, mejorando la resolución del proceso litográfico. Aunque puede aumentar los costos y reducir la capacidad de producción, su eficacia está demostrada: permite fabricar chips más avanzados que los 10 nm (límite teórico de las máquinas UVP) sin necesidad de equipos UVE.
Sin embargo, este método plantea desafíos significativos. SMIC ya ha enfrentado problemas como la reducción de chips viables por oblea, lo que encarece la producción. A pesar de ello, para los diseñadores chinos de chips de IA, contar con dos fabricantes capaces de producir tecnología de 7 nm es un paso estratégico. Para Hua Hong Semiconductor, en particular, representa un salto cualitativo: hasta ahora, su tecnología más avanzada era de 22 nm.
Este logro no solo consolida la posición de China en la industria de semiconductores, sino que también plantea un precedente: ¿Podrá el país asiático superar las barreras tecnológicas impuestas por Occidente sin depender de proveedores extranjeros?
